En poursuivant votre navigation sur ce site, vous acceptez le dépôt de cookies dans votre navigateur. (En savoir plus)
Portail > Offres > Offre UMR5129-ERWPAR-001 - Postdoctorat en procédés plasma (H/F)

Postdoctorat en procédés plasma (H/F)

Cette offre est disponible dans les langues suivantes :
Français - Anglais

Assurez-vous que votre profil candidat soit correctement renseigné avant de postuler. Les informations de votre profil complètent celles associées à chaque candidature. Afin d’augmenter votre visibilité sur notre Portail Emploi et ainsi permettre aux recruteurs de consulter votre profil candidat, vous avez la possibilité de déposer votre CV dans notre CVThèque en un clic !

Faites connaître cette offre !

Informations générales

Référence : UMR5129-ERWPAR-001
Lieu de travail : GRENOBLE
Date de publication : lundi 11 février 2019
Type de contrat : CDD Scientifique
Durée du contrat : 12 mois
Date d'embauche prévue : 1 avril 2019
Quotité de travail : Temps complet
Rémunération : 2530.09 à 2919.72 euros brut
Niveau d'études souhaité : Doctorat
Expérience souhaitée : Indifférent

Missions

L'objectif de ce projet de recherche est de développer des procédés plasma délocalisés permettant une gravure isotrope et sélective de la couche de Si par rapport à la couche de SiGe. Cette étude sera réalisée dans un réacteur industriel de gravure et le développement du procédé s'appuiera sur des techniques de caractérisation telles que l'ellipsométrie et la spectrométrie de photoélectrons X (XPS)

Activités

-Utiliser un réacteur plasma industriel 300mm
-Utiliser des techniques de characterisation des matériaux ellipsométrie, XPS, AFM
-Développer et caractériser de procédés plasma
-Elaborer des nanofils en SiGe pour les dispositifs GAA
-Analyser et synthétiser des résultats pour valorisation (publications, communications)

Compétences

Niveau Bac+8
Ce sujet nécessite un goût pour le travail expérimental, des connaissances sur les procédés de gravure plasma et la caractérisation des matériaux notamment XPS, ellipsométrie, microscopie électronique et AFM. Le candidat doit aimer travailler en équipe tout en faisant preuve d'autonomie, de rigueur et de dynamisme. Le candidat doit être capable de synthétiser ses travaux et de les valoriser au travers de publications et de conférences.

Contexte de travail

Ce travail sera effectué au Laboratoire des Technologies de la Microélectronique (LTM), laboratoire de recherche affilié au CNRS et l'Université Grenoble Alpes (UGA) situé sur le site du CEA-LETI-MINATEC à Grenoble.Le candidat évoluera dans une équipe spécialisée (4 permanents, 6non permanents) dans le domaine des procédés de gravure plasma, travaillant sur des technologies de pointe dans un environnement de haute technologie avancée avec de nombreux contacts internationaux académiques et industriels. Il se peut que la date d'embauche effective soit décalée au 01/07/2019.

On en parle sur Twitter !