Missions

Nous recherchons un chercheur postdoctoral hautement motivé pour rejoindre notre équipe et contribuer à un projet consacré à l’étude du transport des ondes élastiques dans des membranes de silicium microstructurées.
Le chercheur sera principalement responsable de la conception et de la fabrication de membranes de silicium suspendues, en utilisant les équipements de salle blanche de pointe du C2N.
Le travail impliquera le développement de procédés de micro- et nanofabrication avancés basés sur la technologie SOI, incluant la lithographie, la gravure plasma, le dépôt de couches minces et le relâchement des membranes.
Une attention particulière sera portée à la réalisation de motifs périodiques ou microstructurés destinés à contrôler la propagation des ondes élastiques à des fréquences gigahertz.
Le postdoctorant travaillera en étroite collaboration avec les autres membres de l’équipe, responsables de la caractérisation optique et acoustique des structures fabriquées.
Ce poste offre une excellente opportunité de développer une expertise en microfabrication de haute précision dans le cadre d’un projet de recherche multidisciplinaire associant nanotechnologie, science des matériaux et physique des ondes.

Activités

- le développement de procédés de micro- et nanofabrication avancés basés sur la technologie SOI
- la lithographie
- la gravure plasma
- le dépôt de couches minces
- le relâchement des membranes.
- la réalisation de motifs périodiques ou microstructurés destinés à contrôler la propagation des ondes élastiques

Compétences

Le/la candidat(e) devra posséder :
Un doctorat en physique, science des matériaux, génie électrique, nanotechnologie ou domaine équivalent.
Une solide expérience pratique en micro- et nanofabrication en salle blanche, idéalement sur substrats SOI.
Une maîtrise des principales techniques de microfabrication, notamment :
Lithographie optique et/ou par faisceau d’électrons
Gravure humide et sèche (RIE, ICP, KOH, HF, etc.)
Dépôt de couches minces (PVD, PECVD)
Une familiarité avec les techniques de microscopie et de caractérisation (SEM, AFM, profilométrie, ellipsométrie, etc.).
Une capacité à développer et optimiser des procédés de fabrication, à documenter les protocoles et à assurer leur reproductibilité.
Une aptitude à travailler de manière autonome tout en collaborant efficacement au sein d’une équipe multidisciplinaire.
De bonnes compétences en communication en anglais (oral et écrit) ; le français est un atout mais non requis.
Un excellent dossier de publications dans des revues scientifiques pertinentes constitue un avantage.

Contexte de travail

Les membranes de silicium issues de la technologie Silicon-On-Insulator (SOI) sont des structures hautement polyvalentes présentant de nombreuses applications en microélectronique, en systèmes microélectromécaniques (MEMS) et en nanotechnologie.
Elles sont obtenues par gravure sélective de la couche supérieure de silicium des plaquettes SOI afin de former des films suspendus, libres, pouvant atteindre quelques nanomètres d’épaisseur.
Grâce à leurs propriétés mécaniques et électroniques exceptionnelles, ces membranes constituent une plateforme idéale pour l’étude du transport thermique à l’échelle nanométrique, ainsi que pour le développement de nouvelles fonctionnalités optoélectroniques et de détection avancées.
Nous visons à utiliser ces membranes pour étudier le transport des ondes élastiques dans des matériaux microstructurés. Notre approche combine la nanofabrication avancée et l’excitation optique à phase contrôlée afin de générer et visualiser les ondes élastiques avec une résolution spatiale et temporelle élevée.
En concevant et en fabriquant des structures phononiques adaptées sur des plateformes de silicium suspendues, nous cherchons à démontrer une propagation d’ondes robuste et localisée, stable même en présence d’imperfections structurelles.
Ce travail fondamental contribuera à faire progresser la compréhension du contrôle des ondes élastiques à l’échelle micro- et nanométrique.
Le travail sera réalisé au sein du Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies (C2N). Le C2N est un centre de recherche de premier plan en nanosciences et nanotechnologies, soutenu conjointement par le CNRS et l’Université Paris-Saclay.
Doté d’infrastructures de pointe (salles blanches, microscopie, outils de nanofabrication), le C2N offre un environnement exceptionnel pour une recherche innovante.
Le laboratoire favorise une approche multidisciplinaire, réunissant physiciens, spécialistes des matériaux et ingénieurs.
Les chercheurs postdoctoraux y bénéficient d’une communauté scientifique dynamique, de collaborations avec des experts de renommée internationale et de projets à fort potentiel d’innovation.

Le poste se situe dans un secteur relevant de la protection du potentiel scientifique et technique (PPST), et nécessite donc, conformément à la réglementation, que votre arrivée soit autorisée par l'autorité compétente du MESR.

Contraintes et risques

Travail en environnement de laboratoire, utilisation d’équipements sous vide