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Chercheur Post-Doc - Projet ChiralSpinLaser H/F

Cette offre est disponible dans les langues suivantes :
- Français-- Anglais

Date Limite Candidature : jeudi 18 décembre 2025 23:59:00 heure de Paris

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Informations générales

Intitulé de l'offre : Chercheur Post-Doc - Projet ChiralSpinLaser H/F
Référence : UMR7198-MELDOG-031
Nombre de Postes : 1
Lieu de travail : NANCY
Date de publication : jeudi 27 novembre 2025
Type de contrat : Chercheur en contrat CDD
Durée du contrat : 24 mois
Date d'embauche prévue : 1 février 2026
Quotité de travail : Complet
Rémunération : 3.071,50 € brut mensuel
Niveau d'études souhaité : Doctorat
Expérience souhaitée : Indifférent
Section(s) CN : 08 - Micro et nanotechnologies, micro et nanosystèmes, photonique, électronique, électromagnétisme, énergie électrique

Missions

Le poste comporte une mission pour développer un nouveau type d’injecteur de spin basé sur des pérovskites hybrides organiques-inorganiques chirales (OIHP) pour des applications spin-optoélectroniques. Grâce à l’effet de sélectivité de spin induit par la chiralité (CISS), les électrons (ou les trous) traversant la couche de OIHP chirale peuvent générer des porteurs fortement polarisés en spin.

Activités

- Fabriquer des dispositifs spin-optoélectroniques intégrant un injecteur de spin basé sur la couche OIHP.
- Réaliser des mesures de transport à des températures cryogéniques pour étudier les caractéristiques I-V.
- Effectuer les caractérisations préliminaires de l'électroluminescence.

Compétences

- Maîtrise indispensable de l'anglais (écrit et oral) – Niveau C1 (cadre européen commun de référence pour les langues).
- Maîtrise des procédés de lithographie UV et de lithographie par faisceau d'électrons pour la fabrication de dispositifs à l'échelle micro et nanométrique.
- Expérience en mesures de transport à des températures cryogéniques (10–300 K).
- Solide formation en physique de la matière condensée.
- Capacités rédactionnelles fortes (notes d'information, des documents de synthèse, etc.) ;
- Capacité à travailler en équipe et dans un contexte multiculturel.

Contexte de travail

L’Institut Jean Lamour (IJL) est une unité mixte de recherche du CNRS et de l’Université de Lorraine. Spécialisé en science et ingénierie des matériaux et des procédés, il couvre les champs suivants : matériaux, métallurgie, plasmas, surfaces, nanomatériaux, électronique.
En 2025, l'IJL compte 259 permanents (34 chercheurs, 133 enseignants-chercheurs, 92 IT-BIATSS) et 374 non-permanents (136 doctorants, 48 post-doctorants / chercheurs contractuels et plus de 190 stagiaires), d’une soixantaine de nationalités différentes. Il collabore avec plus de 150 partenaires industriels et ses collaborations académiques se déploient dans une trentaine de pays. Son parc instrumental exceptionnel est réparti sur 4 sites dont le principal est situé sur le campus ARTEM à Nancy.

Le travail sera réalisé au sein de l’équipe Nanomatériaux pour l’optoélectronique sur le projet ANR-DFG ChiralSpinLaser. Le candidat travaillera au laboratoire IJL (UMR 7198) sur le campus ARTEM à Nancy. Des déplacements en Europe sont à prévoir.

L'équipe 104 "Nanomatériaux pour l'optoélectronique" (https://NanoOptoSpin.ijl.cnrs.fr) du département Physique de la Matière et des Matériaux (P2M) de l'IJL développe une activité de recherche fondamentale et appliquée basée sur son expertise dans le domaine des nanomatériaux semiconducteurs pour étudier les propriétés optiques et magnétiques via des caractérisations fines structurelles, optoélectroniques et de magnéto-transport.

Le candidat travaillera à 100% comme Chercheur post doctorant sur le projet ChiralSpinLaser qui vise à explorer un nouveau type d’injecteur de spin basé sur des pérovskites hybrides organiques-inorganiques chirales (OIHP).

Le poste se situe dans un secteur relevant de la protection du potentiel scientifique et technique (PPST), et nécessite donc, conformément à la réglementation, que votre arrivée soit autorisée par l'autorité compétente du MESR.

Contraintes et risques

Utilisation de solvants chimiques lors des processus de lithographie (résine photosensible, développeur, acétone, isopropanol, etc.).