Missions

Ce projet aura comme objectif principal la fabrication et l’étude de photo capteurs sensible à la position de haute précision à partir de la synthèse épitaxiale de matériaux actifs tels que les oxydes fonctionnels sur la technologie du Silicium.

Activités

Le travail comporte trois taches principales : (1) le développement d’un procédé industriel qui permettra de faire de la croissance de couches minces actives sur wafers 6 pouces de Silicum, (2) la fabrication et caractérisation de 3 gammes de photo capteurs sensible à la position de haute précision (10 x 10 cm2, 5 x 5 cm2, 1 x 1 cm2 ) fabriqués sur wafers 6 pouces, et (3) l’encapsulation avec ou sans optique intégrée, avec électronique embarquée et software pour potentielle commercialisation.

Compétences

Le candidat a ce poste devra disposer d’un Doctorat en physique et chimie de matériaux, avec une expertise en synthèse de couches minces d’oxides fonctionnels par voies chimiques, nano structuration des couches minces et fabrication de composants électroniques.
La maîtrise de l'anglais est obligatoire.

Contexte de travail

L'Institut d'Électronique et des Systèmes (IES) est une Unité Mixte de Recherche entre le CNRS et l'Université de Montpellier (IES, UMR n°5214 CNRS-UM). L'unité est répartie en dix équipes de recherche de taille variable couvrant les axes thématiques photonique et ondes, matériaux, énergie, fiabilité des systèmes en environnements contraints et capteurs et instrumentation.

Contraintes et risques

Ce poste se situe dans un secteur relevant de la protection du potentiel scientifique et technique (PPST) et nécessite donc, conformément à la réglementation, que votre arrivée soit autorisée par l'autorité compétente du Ministère de l'Enseignement Supérieur et de la Reherche (MESR)