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Chercheur H/F en procédés de gravure plasma pour la photonique intégrée sur Silicium

Cette offre est disponible dans les langues suivantes :
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Informations générales

Référence : UMR5129-MARCLO-033
Lieu de travail : GRENOBLE
Date de publication : vendredi 19 juin 2020
Type de contrat : CDD Scientifique
Durée du contrat : 12 mois
Date d'embauche prévue : 1 septembre 2020
Quotité de travail : Temps complet
Rémunération : Entre 2648.79 à 3054.06€ bruts mensuels
Niveau d'études souhaité : Doctorat
Expérience souhaitée : 1 à 4 années

Missions

Ce travail s'inscrit dans le contexte d'un projet des collectivités locales Nano 2022 piloté par STMicroelectronics, programme photonique. L'objectif global de ce projet est de développer des technologies et procédés innovants afin d'améliorer les performances des dispositifs photoniques intégrés sur une plateforme silicium. Notamment, les performances optiques des guides d'onde Si ou SiN sont intimement liées à la qualité des procédés de gravure par plasma impliqués dans leur fabrication. Un exemple bien connu est l'impact néfaste de la rugosité des flancs de guide d'onde sur les pertes de propagation optique. L'objectif de ce postdoc est de fabriquer des guides d'onde Si et SiN aux pertes optiques ultra-faibles. Pour cela, il s'agira d'une part de développer et d'optimiser des procédés de gravure par plasma permettant de structurer des guides avec des rugosités minimales, et donc de diminuer les pertes optiques par diffusion. Une piste prometteuse pour atteindre cette objectif est d'utiliser les technologies de plasma pulsé, disponibles au LTM/CNRS, qui offrent une multitude de possibilité pour structurer la matière sans dommage. D'autre part, il s'agira d'explorer d'autres voies pour s'affranchir des autres sources de pertes optiques (par ex. en introduisant des recuits de guide ou en proposant d'autres stratégies d'encapsulation des guides après patterning).

Activités

Le travail sera réalisé sur les réacteurs de gravure 200 et 300mm du LTM localisés dans les salles blanches du CEA/Leti, le réacteur 300mm étant équipé des technologies de plasma pulsé :
-Développement de procédés de gravure en plasma pulsé de guides d'onde Si et SiN
-Comparaison des performances des procédés plasma continu et pulsé en terme morphologie des guides
-Développement de recuit adapté pour lisser davantage les guides ou modifier leurs propriétés optiques
-Développement de stratégie d'encapsulation de guides autres que le SiO2
-Caractérisation des pertes optiques des guides et comparaison des performances obtenues selon le procédé établi
-Valorisation des résultats sous forme d'articles ou de communications à des conférences

Compétences

1) Connaissances théoriques: mécanismes de gravure par plasma, sciences des matériaux, des connaissances en optique linéaire et non linéaire seront appréciées
2) Compétences techniques:
- Procédés de gravure plasma,
- Diagnostics plasma (spectro de masse, sonde de flux.),
- Caractérisation des procédés de gravure (morphologie par MEB, MEB-CD, ellipsométrie et rugosité par AFM et MEB-CD)
- caractérisation des matériaux (XPS, FTIR,)
- Caractérisation optique (mesures de pertes optiques dans des guides ou mesures de facteur de qualité dans un microrésonateur)
3) Compétences de valorisation des résultats par rédaction d'articles ou présentation à des conférences
4) autre compétences: anglais écrit/parlé, connaissance en programmation Matlab

Contexte de travail

Ce travail sera effectué au Laboratoire des Technologies de la Microélectronique (LTM), unité mixte de recherche du CNRS et de l'Université Grenoble Alpes (UGA) (UMR 5129) situé sur le site du CEA-LETI-MINATEC à Grenoble. Une centaine de personnes travaillent au LTM : 30 Chercheurs ou enseignants chercheurs, 18 Ingénieurs et Techniciens, 31 doctorants et 16 post doc. Les activités du laboratoire se positionnent à la frontière entre recherche académique amont et recherche industrielle. Le LTM a ainsi développé au fil des années plusieurs partenariats directs avec différents acteurs de l'industrie micro/nanoélectronique notamment STMicroelectroniques à Crolles et Applied Materials à SAnta Clara (USA). Le candidat rejoindra l'équipe « gravure par plasma » du LTM, constitué de 5 chercheurs et 5/6 non permanents. Cette équipe vise le développement de procédés de gravure innovants développés dans des réacteurs de gravure industriel de dernière génération pour relever les défis de la structuration de la matière pour tout type d'application.

Contraintes et risques

Néant

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