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Post doctorat (H/F) Développement et caractérisation in situ de procédés ASD avec SAM (Self-Assembled Monolayers)

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Informations générales

Référence : UMR5129-MARCLO-016
Lieu de travail : GRENOBLE
Date de publication : lundi 2 mars 2020
Type de contrat : CDD Scientifique
Durée du contrat : 12 mois
Date d'embauche prévue : 1 juin 2020
Quotité de travail : Temps complet
Rémunération : entre 2648.79 à 3054.06€ bruts mensuels
Niveau d'études souhaité : Doctorat
Expérience souhaitée : Indifférent

Missions

Les dimensions actuelles des dispositifs et des couches minces utilisés dans ces dispositifs microélectroniques (quelques dizaines de nm), rendent de plus en plus difficile et chère leur mise en forme par les procédés de patterning (lithographie + gravure). Il y a donc un besoin évident à développer des nouvelles structurations de la matière dans les 3 directions de l'espace par des procédés dits sélectifs. Le dépôt par ALD (Atomic Layer Deposition) qui repose sur des réactions chimiques auto-limitantes entre des gaz et une surface solide, est un excellent outil pour développer ces procédés sélectifs. Il faut toutefois lui ajouter une étape d'activation ou de désactivation de surface. Dans le cadre de ce projet, nous souhaitons donc étudier le procédé ASD (Area Selective Deposition) combinant une désactivation localisée d'une surface à l'aide de molécules auto-assemblées (SAM – Self Assembled Monolayer) et un dépôt ALD. La réussite de ce procédé nécessite de parfaitement localiser les SAM (densité, hauteur, nature chimique) et de comprendre leur modification chimique avec le temps ou lorsqu'elles sont soumises aux différents précurseurs du procédé ALD. C'est pourquoi le travail demandé ici sera focalisé sur l'analyse in situ des interactions entre les SAMs et les précurseurs du procédé ALD (principalement par SE et XPS). Pour cela, deux équipements ALD seront utilisés, le premier étant équipé d'un ellipsomètre in situ, le deuxième d'un système de transfert sous vide pour des analyses XPS in situ. Le candidat devra donc dans un premier temps développer un protocole d'analyse des SAMs, puis comprendre l'impact du procédé sur la dégradation éventuelle des SAMs.

Activités

- Caractérisation in situ et ex situ de SAMs par XPS, Ellipsométrie, XRR,…
- Utilisation de procédés ALD et PEALD
- Caractérisation OES d'un plasma
- Travail en salle blanche

Compétences

- Le candidat doit être titulaire d'un doctorat en chimie, physique ou science des matériaux.
- Le candidat doit posséder une expérience en élaboration de couches nanométriques ou couches minces par procédés ALD ou plasma.
- Le candidat doit avoir une expertise en caractérisation des matériaux et des interfaces (Ellipsométrie, XPS…).
- Un savoir-faire sur la caractérisation et la mise en forme de SAMs est un plus.
- Bonnes capacités relationnelles (interactions nombreuses à prévoir avec les équipes élaborant les dispositifs et travaillant en test électrique). Capacités à communiquer efficacement de manière écrite et verbale (nombreux rapports et communications à assurer dans le cadre du projet européen).

Contexte de travail

Ce travail s'inscrit dans le cadre du projet européen WakeMeUp dont les objectifs sont d'étudier et d'améliorer la fiabilité de mémoires résistives.
Le LTM est une unité mixte de recherche CNRS/Université Grenoble Alpes, comportant 6 équipes dont 4 de recherche et compte environ 90 personnes. Le laboratoire est situé le site du CEA-LETI à Grenoble.
Ce travail se fera au sein de l'équipe matériaux et en collaboration avec le CEA/LETI. Le candidat travaillera avec M. Bonvalot, B. Pelissier, et C. Vallée de l'équipe matériaux ainsi que R. Gassilloud du CEA/LETI.

Contraintes et risques

Le travail se fera essentiellement en salle blanche.

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