Couches minces a-SiC pour circuits photoniques intégrés (DC2) H/F
Nouveau
- CDD Doctorant
- 36 mois
- Doctorat
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Cette offre est ouverte aux personnes disposant d’un titre leur reconnaissant la qualité de travailleur handicapé ou travailleuse handicapée.
L'offre en un coup d'oeil
L'unité
Sciences et Ingénierie, Matériaux, Procédés
Type de Contrat
CDD Doctorant
Temps de Travail
Complet
Lieu de Travail
38402 ST MARTIN D HERES
Durée du contrat
36 mois
Date d'Embauche
01/10/2026
Rémuneration
La rémunération est d'un minimum de 2600,00 € mensuel
Postuler Date limite de candidature : mercredi 8 avril 2026 23:59
Description du Poste
Sujet De Thèse
Le CNRS-Grenoble INP-Université Grenoble Alpes recherche un candidat hautement motivé pour un poste de doctorat entièrement financé (36 mois) axé sur le dépôt de couches minces pour des applications photoniques.
Ce poste s'inscrit dans le cadre du projet « Silicon carbide photonic integrated circuit (SiCPIC) », un prestigieux réseau doctoral européen financé par le programme de recherche et d'innovation Horizon Europe de l'Union européenne dans le cadre de l'action Marie Skłodowska-Curie (MSCA), convention de subvention n° 101227010.
• Collaboration internationale : le doctorant rejoindra une équipe internationale de 15 doctorants issus de cinq pays européens, en partenariat avec 5 universités et une entreprise.
• Collaboration industrielle : la thèse se déroule en collaboration avec l'entreprise PlasmaTherm Europe.
• Thème de recherche : les 15 projets de doctorat s'inscrivent dans le thème du projet « Dispositifs en carbure de silicium sur isolant (SiCOI) et intégration pour des applications dans les télécommunications optiques classiques et quantiques et la détection optique ».
Ce projet de doctorat se déroulera au CNRS-Grenoble INP-Université Grenoble Alpes (France) et bénéficiera de missions chez les partenaires du réseau SiCPIC (Plasma-Therm, DTU, PoliTO).
Cette thèse a pour objectif d’optimiser et comprendre les procédés de dépôt de couches minces de carbure de silicium amorphe (a-SiC) par ICPCVD (Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition) et PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition), en collaboration avec l’entreprise Plasma-Therm. Une approche méthodique, combinant expérimentations avancées et planification d’expériences (DoE), sera mise en œuvre pour explorer les liens entre les paramètres de dépôt (puissance plasma, température du substrat, pression, composition de la phase gazeuse), la structure chimique des films, et leurs propriétés optiques et électriques.
Une attention particulière sera portée à l’étude des effets du recuit (laser et thermique) sur la stabilité et les performances des couches, via des caractérisations ex situ (spectroscopie Raman, diffraction des rayons X, ellipsométrie) et in situ (mesures de contraintes, analyses structurales).
La personne recrutée sera formée à l’ingénierie des procédés plasma (ICPCVD/PECVD), à la planification d’expériences (méthodes statistiques et numériques), à la caractérisation multi-échelle des couches minces (caractérisations structurales, chimiques et optiques).
Résultats attendus :
- Compréhension approfondie des mécanismes liant les paramètres de dépôt (IPCVD et PECVD), la physico-chimie des films (structure, contraintes, composition) et leurs propriétés optoélectroniques.
- Optimisation des traitements post-dépôt (recuit laser/thermique) pour améliorer la stabilité et les performances des dispositifs.
- Contribution à l’intégration des couches a-SiC dans des circuits photoniques classiques et quantiques, en synergie avec les partenaires académiques et industriels du réseau.
Diplômes: Les candidat·e·s doivent être titulaire·s d’un master de deux ans (ou d’un diplôme équivalent de niveau bac+5) en science des matériaux, génie des procédés ou dans un domaine apparenté.
Compétences : Esprit critique, Conception de protocoles de recherche, Capacité de présentation, Travail d’équipe, Gestion du temps, Organisation et Approche interdisciplinaire, très bon anglais (écrit/parlé).
De bonnes compétences en méthodes numériques et en analyse statistique sont requises.
Votre Environnement de Travail
Le SIMaP (Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés – UMR 5266), laboratoire mixte CNRS/Grenoble INP/Université Grenoble Alpes, est un
pôle d’excellence en science des matériaux et procédés innovants. Il couvre des domaines variés, de la métallurgie aux nanomatériaux, en passant
par les matériaux pour l’énergie, et dispose d’équipements de pointe pour la recherche.
Intégré dans un réseau actif de collaborations industrielles et académiques, le SIMaP offre un cadre idéal pour des travaux de thèse ambitieux, avec
un encadrement scientifique rigoureux. L'équipe dans laquelle sera intégré le ou la doctorante est internationalement reconnu pour ses recherches en
science des matériaux et génie des procédés appliquées au couches minces.
Rémunération et avantages
Rémunération
La rémunération est d'un minimum de 2600,00 € mensuel
Congés et RTT annuels
44 jours
Pratique et Indemnisation du TT
Pratique et indemnisation du TT
Transport
Prise en charge à 75% du coût et forfait mobilité durable jusqu’à 300€
À propos de l’offre
| Référence de l’offre | UMR5266-FREMER-004 |
|---|---|
| Section(s) CN / Domaine de recherche | Chimie des matériaux, nanomatériaux et procédés |
À propos du CNRS
Le CNRS est un acteur majeur de la recherche fondamentale à une échelle mondiale. Le CNRS est le seul organisme français actif dans tous les domaines scientifiques. Sa position unique de multi-spécialiste lui permet d’associer les différentes disciplines pour affronter les défis les plus importants du monde contemporain, en lien avec les acteurs du changement.
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