Offre de Thèse - Photonique/Couches minces/Modélisation multiphysique H/F
Nouveau
- CDD Doctorant
- 36 mois
- BAC+5
L'offre en un coup d'oeil
L'unité
Sciences et Ingénierie, Matériaux, Procédés
Type de Contrat
CDD Doctorant
Temps de Travail
Complet
Lieu de Travail
38402 ST MARTIN D HERES
Durée du contrat
36 mois
Date d'Embauche
01/10/2026
Rémuneration
La rémunération est d'un minimum de 2600,00 € mensuel
Postuler Date limite de candidature : lundi 23 mars 2026 23:59
Description du Poste
Sujet De Thèse
Le CNRS-Grenoble INP-Université Grenoble Alpes recherche un candidat hautement motivé pour un poste de doctorat entièrement financé (36 mois) axé sur le dépôt de couches minces pour des applications photoniques.
Ce poste s'inscrit dans le cadre du projet « Silicon carbide photonic integrated circuit (SiCPIC) », un prestigieux réseau doctoral européen financé par le programme de recherche et d'innovation Horizon Europe de l'Union européenne dans le cadre de l'action Marie Skłodowska-Curie (MSCA), convention de subvention n° 101227010.
• Collaboration internationale : le doctorant rejoindra une équipe internationale de 15 doctorants issus de cinq pays européens, en partenariat avec 5 universités et une entreprise.
• Thème de recherche : les 15 projets de doctorat s'inscrivent dans le thème du projet « Dispositifs en carbure de silicium sur isolant (SiCOI) et intégration pour des applications dans les télécommunications optiques classiques et quantiques et la détection optique ».
Ce projet de doctorat se déroulera au CNRS-Grenoble INP-Université Grenoble Alpes (France).
La thèse de doctorat a pour objectif de développer et comprendre le procédé de dépôt d’ultra-fins films minces de SiC amorphe par HWCVD (Hot Wire Chemical Vapor Deposition). Une approche couplée, associant expérimentations et simulations numériques multiphysiques, sera mise en œuvre. Une étude approfondie des relations entre les conditions de dépôt (températures du filament et du substrat, pression, composition de la phase gazeuse précurseur), la structure chimique des films et les propriétés optiques résultantes sera menée. Les matériaux élaborés seront comparé à ceux obtenus par PVD (pulvérisation cathodique magnétron).
La personne recrutée sera formée à l’ingénierie des procédés, à la planification d’expériences, à la simulation numérique, ainsi qu’à la caractérisation des couches minces par des méthodes structurales, chimiques et physiques (DRX, Raman, IRTF, SIMS, XPS, ellipsométrie).
Les résultats attendus sont :
- Validation et optimisation d’une nouvelle technologie HWCVD.
- Obtention de films minces de SiC amorphe (a-SiC) à hautes performances optiques (matériau test en petites dimensions, inférieur à 2 pouces), destinés à être utilisés dans d’autres lots de travail (WPs).
- Compréhension approfondie des relations entre le procédé de dépôt, la physico-chimie des films et leurs propriétés optiques.
Votre Environnement de Travail
Le SIMaP (Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés – UMR 5266), laboratoire mixte CNRS/Grenoble INP/Université Grenoble Alpes, est un pôle d’excellence en science des matériaux et procédés innovants. Il couvre des domaines variés, de la métallurgie aux nanomatériaux, en passant par les matériaux pour l’énergie, et dispose d’équipements de pointe pour la recherche.
Intégré dans un réseau actif de collaborations industrielles et académiques, le SIMaP offre un cadre idéal pour des travaux de thèse ambitieux, avec un encadrement scientifique rigoureux. L'équipe dans laquelle sera intégré le ou la doctorante est internationalement reconnu pour ses recherches en science des matériaux et génie des procédés appliquées au couches minces.
Rémunération et avantages
Rémunération
La rémunération est d'un minimum de 2600,00 € mensuel
Congés et RTT annuels
44 jours
Pratique et Indemnisation du TT
Pratique et indemnisation du TT
Transport
Prise en charge à 75% du coût et forfait mobilité durable jusqu’à 300€
À propos de l’offre
| Référence de l’offre | UMR5266-FREMER-003 |
|---|---|
| Section(s) CN / Domaine de recherche | Chimie des matériaux, nanomatériaux et procédés |
À propos du CNRS
Le CNRS est un acteur majeur de la recherche fondamentale à une échelle mondiale. Le CNRS est le seul organisme français actif dans tous les domaines scientifiques. Sa position unique de multi-spécialiste lui permet d’associer les différentes disciplines pour affronter les défis les plus importants du monde contemporain, en lien avec les acteurs du changement.
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