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Portail > Offres > Offre UMR5129-ERWPAR-005 - Postdoc (H/F) en Fabrication de guides d'onde Si ultra faible perte pour la photonique intégrée sur Silicium

Postdoc (H/F) en Fabrication de guides d'onde Si ultra faible perte pour la photonique intégrée sur Silicium

Cette offre est disponible dans les langues suivantes :
Français - Anglais

Date Limite Candidature : vendredi 4 février 2022

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Informations générales

Référence : UMR5129-ERWPAR-005
Lieu de travail : GRENOBLE
Date de publication : vendredi 14 janvier 2022
Type de contrat : CDD Scientifique
Durée du contrat : 12 mois
Date d'embauche prévue : 1 avril 2022
Quotité de travail : Temps complet
Rémunération : 2663.79€ a 3069.06€ brut
Niveau d'études souhaité : Doctorat
Expérience souhaitée : 1 à 4 années

Missions

L'objectif de ce projet est de fabriquer des guides d'onde Si ultra faible perte pour la photonique intégrée sur Silicium . Une des principales sources de pertes optiques dans un guide sont les pertes par diffusion liées à la présence de rugosité sur les flancs des guides après la structuration par plasma. Ainsi, un premier objectif est de développer et d'optimiser des procédés de gravure par plasma permettant de structurer des guides avec des rugosités minimales. Une piste prometteuse pour atteindre cet objectif est d'utiliser les technologies de plasma pulsé, disponibles au LTM/CNRS, qui offrent une multitude de possibilité pour structurer la matière sans dommage. D'autre part, pour éliminer d'autres sources de perte comme les pertes par absorption, il s'agira de proposer des traitements de recuits des matériaux ou des nouvelles stratégies d'encapsulation des guides. Ces développements reposeront sur une compréhension fine des modifications physicochimiques des matériaux soumis aux divers traitements et permettront d'identifier les conditions optimales pour une minimisation des pertes optiques.

Activités

Le travail sera réalisé sur les réacteurs de gravure 200 et 300mm du LTM localisés dans les salles blanches du CEA/Leti, le réacteur 300mm étant équipé des technologies de plasma pulsé .Le candidat aura également accès à un panel de techniques de caractérisations des matériaux disponibles en salle blanche.
-Développement et caractérisation de procédés de gravure en plasma de guides d'onde Si
-Développement et caractérisation de recuit adapté pour lisser davantage les guides ou modifier leurs propriétés optiques
-Développement de stratégie d'encapsulation de guides autres que le SiO2
-Caractérisation des pertes optiques des guides et comparaison des performances obtenues selon le procédé établi
-Valorisation des résultats sous forme d'articles ou de communications à des conférences

Compétences

1)Connaissances théoriques: mécanismes de gravure par plasma, sciences des matériaux, des connaissances en optique linéaire et non linéaire seront appréciées
2) Compétences techniques:
-Procédés de gravure plasma,
-Caractérisation des procédés de gravure (morphologie par MEB, MEB-CD, ellipsométrie et rugosité par AFM et MEB-CD)
-Caractérisation des matériaux (XPS, FTIR, ellipsométrie, photoluminescence )
-Caractérisation optique (mesures de pertes optiques dans des guides ou mesures de facteur de qualité dans un microrésonateur)
3) Compétences de valorisation des résultats par rédaction d'articles ou présentation à des conférences
4) autre compétences: anglais écrit/parlé, connaissance en programmation Matlab

Contexte de travail

Ce travail sera effectué au Laboratoire des Technologies de la Microélectronique (LTM), unité mixte de recherche du CNRS et de l'Université Grenoble Alpes (UGA) (UMR 5129) situé sur le site du CEA-LETI-MINATEC à Grenoble. Une centaine de personnes travaillent au LTM : 30 Chercheurs ou enseignants chercheurs, 18 Ingénieurs et Techniciens, 31 doctorants et 16 post doc. Les activités du laboratoire se positionnent à la frontière entre recherche académique amont et recherche industrielle. Le LTM a ainsi développé au fil des années plusieurs partenariats directs avec différents acteurs de l'industrie micro/nanoélectronique notamment STMicroelectroniques à Crolles et Applied Materials à SAnta Clara (USA). Le candidat rejoindra le pôle « PROSPECT » du LTM. Ce département vise le développement de procédés et matériaux innovants pour les dispositifs avancés de la nano/optoélectronique.
Ce projet sera développé en étroite collaboration avec le département optique du CEA/Leti (DOPT/Leti/CEA)

Contraintes et risques

travail en salle blanche

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