Chercheur (H/F) : Développement de procédés de gravure plasma de Laser III-V pour la photonique intégrée sur Si
Nouveau
- Chercheur en contrat CDD
- 12 mois
- Doctorat
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Cette offre est ouverte aux personnes disposant d’un titre leur reconnaissant la qualité de travailleur handicapé ou travailleuse handicapée.
L'offre en un coup d'oeil
L'unité
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Type de Contrat
Chercheur en contrat CDD
Temps de Travail
Complet
Lieu de Travail
38054 GRENOBLE
Durée du contrat
12 mois
Date d'Embauche
01/01/2027
Rémuneration
Entre 3041€ et 3466€ bruts
Postuler Date limite de candidature : vendredi 9 octobre 2026 23:59
Description du Poste
Les Missions
Ce travail s'inscrit dans le cadre du projet IRT Nanoelec, qui vise la maturité de plateforme photonique intégrée compatible CMOS sur 300mm. Dans ce contexte, un des points technologiques bloquants est la structuration par plasma de l’empilement complexe de semiconducteurs III-V constituant le laser et reportés par collage moléculaire sur un substrat 300mm. Un exemple simplifié de structure laser est : InP (4µm)/Puits quantiques GaAlInAS (400nm) /InP contact (200nm) /substrat Si.
L’objectif du projet est de développer un procédé de gravure plasma de l’empilement permettant un arrêt sélectif sur la couche de contact InP (principale problématique actuelle), et des flancs de laser anisotropes sans dégradation latérale des puits quantiques. Les technologies de plasma pulsé connues pour améliorer les sélectivités de gravure entre les matériaux et minimiser les dommages seront évaluées dans le cadre de cette étude
Pour atteindre cet objectif, il faudra comprendre les mécanismes de gravure des différents matériaux impliqués en chimie de plasma chlorée, ainsi que les mécanismes permettant d’assurer une sélectivité InGaAlAS/InP.
L'Activité
Les procédés de gravure plasma seront développés sur le réacteur de gravure 300mm du LTM, équipé de technologie de plasma pulsé et localisé dans les salles blanches du CEA/Leti. Le candidat aura également accès à un panel de techniques de caractérisations des matériaux.
Il s’agira de :
1) D’étudier les mécanismes de gravure et de sélectivité de films InP et InGaAlAs en fonction des paramètres plasma à partir d’ellipsométrie, XPS, AFM
2) Développer un procédé de gravure de l’empilement répondant aux critères de sélectivité et d’endommagement par caractérisation FIB-STEM et EDX
3) Valoriser les résultats sous forme d’articles ou de communications à des conférences
4) Transférer les procédés au CEA/Leti . en effet, Les études seront menées en étroite collaboration avec le CEA/Leti. En cas de résultats morphologiques concluants, les procédés seront intégrés dans des lots optiques démonstrateur où les performances du laser structurés pourront être évaluées.
Votre Profil
Compétences
Procédés de gravure plasma et gravure humide, caractérisation des matériaux (XPS, ellipsométrie, AFM, microscopie électronique)
Autres compétences: anglais écrit/parlé, python
Votre Environnement de Travail
Ce travail sera effectué au Laboratoire des Technologies de la Microélectronique (LTM), unité mixte de recherche du CNRS et de l'Université Grenoble Alpes (UGA) (UMR 5129) situé sur le site du CEA-LETI-MINATEC à Grenoble. Une centaine de personnes travaillent au LTM : 30 Chercheurs ou enseignants chercheurs, 18 Ingénieurs et Techniciens, 31 doctorants et 16 post doc. Les activités du laboratoire se positionnent à la frontière entre recherche académique amont et recherche industrielle. Le LTM a ainsi développé au fil des années plusieurs partenariats directs avec différents acteurs de l'industrie micro/nanoélectronique notamment STMicroelectroniques à Crolles et Applied Materials à SAnta Clara (USA). Le candidat rejoindra l’équipe PROSPECT du LTM. Cette équipe vise le développement de procédés et matériaux innovants pour les dispositifs avancés de la nano/optoélectronique.
Contraintes et risques
Néant
Rémunération et avantages
Rémunération
Entre 3041€ et 3466€ bruts
Congés et RTT annuels
44 jours
Pratique et Indemnisation du TT
Pratique et indemnisation du TT
Transport
Prise en charge à 75% du coût et forfait mobilité durable jusqu’à 300€
À propos de l’offre
| Référence de l’offre | UMR5129-MARCLO-110 |
|---|---|
| Section(s) CN / Domaine de recherche | Micro- et nanotechnologies, micro- et nanosystèmes, photonique, électronique, électromagnétisme, énergie électrique |
| Expérience souhaitée | 1 à 4 années |
À propos du CNRS
Le CNRS est un acteur majeur de la recherche fondamentale à une échelle mondiale. Le CNRS est le seul organisme français actif dans tous les domaines scientifiques. Sa position unique de multi-spécialiste lui permet d’associer les différentes disciplines pour affronter les défis les plus importants du monde contemporain, en lien avec les acteurs du changement.
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